MDG20-54-恒溫循環(huán)水槽-（20℃～180℃）實現(xiàn)高溫195℃，低溫-20℃恒溫測試，為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度達到±0.05℃， 應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。

產(chǎn)品特點

> PID精密恒溫控制系統(tǒng)，精密恒溫控制系統(tǒng)，恒溫波動度±0.1℃，適用于高至195℃，低-20℃的化工、制藥等化學反應工藝過程控制等；

> 單點溫度校準和電位器校正，溫度數(shù)據(jù)更可靠；

> 壓縮機，噪音低，制冷效率高；

> 制冷相關配件采用進口品牌，性能穩(wěn)定且壽命長；

> 制冷系統(tǒng)具備高壓保護器，確保制冷系統(tǒng)安全；

> 全封閉高低溫磁力泵循環(huán)攪拌，溫場均勻，免除泄露和異常噪音；

> 具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等，安全防護更全面；

可選附件

> 可選配RS485通訊接口；

> 可選配嵌入式不銹鋼蓋，用于更緊湊的空間需求；

> 可選配SUS304液槽隔板，用于浸入式實驗需求；

恒溫循環(huán)水槽技術參數(shù)